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超声波清洗机的生产流程,此类清理加工工艺同有机溶剂清理对比较大的差别取决于,其前2个清理模块

作者: 来源: 日期:2020-4-20 9:57:07 人气:212
          超声波清洗机的生产流程,此类清理加工工艺同有机溶剂清理对比较大的差别取决于,其前2个清理模块

          超声波清洗机的生产流程:

          1、碾磨后的清理

          碾磨是光学镜片生产制造中决策其生产加工高效率和工艺性能(外型和精密度)的关键工艺流程。碾磨工艺流程中的关键空气污染物为研磨粉和沥清,极少数公司的生产过程中也有漆片。在其中研磨粉的型号规格各不相同,一般是以二氧化铈主导的碱土金属金属氧化物。依据眼镜片的材料及碾磨精密度不一样,挑选不一样型号规格的研磨粉。在碾磨全过程中应用的沥清是起维护功效的,以避免打磨抛光完的镜面玻璃被刮伤或浸蚀。碾磨后的清洗机械大概分成二种:


          一种关键应用溶剂清洁剂,另一种关键应用半水基清洗液。

          一、溶剂清理选用的清理步骤以下:

          溶剂清洁剂(超音波)-水基清洗液(超音波)-市水浸洗-纯净水浸洗-IPA(异丙醇)脱干-IPA慢拉干躁。

          溶剂清洁剂的适用范围是清理沥清及漆片。之前的有机溶剂清洁剂多选用三氯乙烷或三氯乙烯。因为三氯乙烷属ODS(耗费大气层化学物质)商品,现阶段处在强制性取代环节;而长期性应用三氯乙烯易造成 职业危害,并且因为三氯乙烯很不稳定,非常容易水解反应偏酸,因而会浸蚀眼镜片及机器设备。对于此事,中国的清洗剂厂家研发生产制造了非ODS水溶性树脂系列产品清洁剂,可用以清理光学镜片;而且该产品系列具有不一样的有机化学指标值,可合理考虑不一样机器设备及加工工艺标准的规定。例如在极少数公司的加工过程中,眼镜片表层有一层没办法解决的漆片,规定应用具有独特溶解度的溶剂;一部分公司的清洗机械的有机溶剂清理槽冷凝管较少,随意程很短,规定应用蒸发比较慢的溶剂;另一部分公司则反过来,规定应用蒸发迅速的溶剂等。

          水基清洗液的适用范围是清理研磨粉。因为研磨粉是碱土金属金属氧化物,有机溶剂对其清理工作能力太弱,因此眼镜片生产过程中造成的研磨粉大部分是在水性清理模块内去除的,因此对水基清洗液明确提出了非常高的规定。之前因为中国的光学镜片专用型水基清洗液种类较少,许多 外资公司都采用進口的清洁剂。而现阶段中国现有企业开发设计出电子光学玻璃清洗剂,并取得成功地运用在中国很多家大中型光学镜片生产厂家,清理实际效果彻底能够 替代进口商品,在腐蚀(防腐蚀特性)等指标值上也是好于进口商品。

          针对IPA慢拉干躁,必须表明的一点是,一些类型的眼镜片干躁后非常容易造成图片水印,这类状况一方面与IPA的纯净度及空气相对湿度相关,另一方面与清洗机械有很大的关联,尤其是手臂干躁的实际效果显著比不上双臂干躁的好,必须设备厂家及客户留意此点。

          二、半水性清理选用的清理步骤以下:

          半水基清洗液(超音波)-市水浸洗-水基清洗液-市水浸洗-纯净水浸洗-IPA脱干-IPA慢拉干躁

          此类清理加工工艺同有机溶剂清理对比较大 的差别取决于,其前2个清理模块:溶剂清理只对沥清或漆片具备优良的清理实际效果,但却没法清理研磨粉等无机化合物;半水基清洗液则不一样,不仅能够 清理沥清等有机化学空气污染物,还对研磨粉等无机化合物有优良的清理实际效果,进而大大的缓解了事后清理模块中水基清洗液的清理工作压力。半水基清洗液的特性是蒸发速率比较慢,味道小。选用半水基清洗液清理的机器设备在第一个清理模块中不用密封性冷疑和水蒸气蒸馏收购设备。但因为半水基清洗液黏度很大,而且对事后工艺流程应用的水基清洗液有乳化作用,因此第二个模块须市水浸洗,而且最好是将其设成水流浸洗。

          中国运用此类加工工艺的公司很少,在其中一个缘故是半水基清洗液多见進口,价钱较为价格昂贵。

          从水性清理模块刚开始,半水性清理加工工艺同有机溶剂清理加工工艺基本一致。在这里已不过多阐释。

          三、二种清理方法的较为

          有机溶剂清理是较为传统式的方式,其优势是清理速度更快,高效率较为高,有机溶剂自身能够 持续水蒸气蒸馏再造,循环系统应用;但缺陷也较为显著,因为光学镜片的环境规定恒温恒湿设备,均为封闭式生产车间,有机溶剂的味道针对办公环境是多少都是一些危害,尤其是应用不封闭式的全自动清洗机械时。

          半水性清理是近些年慢慢发展趋势完善的一种新技术新工艺,它是在传统式有机溶剂清理的基本上开展改善而获得的。它合理地防止了有机溶剂的一些缺点,能够 保证无毒性,味道轻度,废水可排进废水处理系统软件;机器设备上的配套设施设备更少;应用周期比有机溶剂要更长;在运作成本费上比有机溶剂更低。半水基清洗液更为突显的一个优势便是针对研磨粉等无机物空气污染物具备优良的清理实际效果,巨大地减轻了事后模块水基清洗液的清理工作压力,增加了水基清洗液的使用期,降低了水基清洗液的使用量,减少了运作成本费。

          它的缺陷便是清理的速率比有机溶剂偏慢,而且务必要开展浸洗。

          2、表层的镀膜前清理

          表层的镀膜前清理的关键空气污染物是求芯油(也称打磨油,求芯也称定芯、取芯,指以便获得要求的半经及芯精密度而采用的工艺流程)、指印、尘土等。因为表层的镀膜工艺流程对眼镜片洁净度等级的规定极其严苛,因而清洁剂的挑选是很重要的。在考虑到某类清洁剂的清理工作能力的另外,也要充分考虑他的腐蚀等层面的难题。

          表层的镀膜前的清理一般也选用与碾磨后清理同样的方法,分成有机溶剂清理和半水性清理等方法。生产流程及常用有机化学药物种类如前所述。


          3、表层的镀膜后清理

          一般包含涂墨前清理、紧密连接前清理和拼装前清理,在其中紧密连接前清理(紧密连接就是指将两块眼镜片用感光粘胶连接成要求的样子,以考虑没法一次生产加工成形的要求,或生产制造出比较独特的折射率、透光度的一道工艺流程)规定更为严苛。超声波清洗机紧密连接前应清理的空气污染物主要是尘土、指印等的化合物,清理难度系数并不大,但针对眼镜片表层洁净度等级有十分高的规定,其清理方法与前边2个清理加工工艺同样。

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